真空镀膜实质上是在高真空状态下利用物理方法在镀件的表面镀上一层薄膜的技术，它是一种物理现象。
真空镀膜按其方式不同可分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和现代发展起来的离子镀膜。
磁控溅射法是一种较为常用的物理沉积法。磁控溅射是在真空室中，利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶表面，并利用环状磁场控制辉光放电，使溅射出的粒子沉积在基片上。磁控溅射可以方便地制取高熔点物质的薄膜，在很大面积上可以制取均匀的膜层。
在镀膜过程中，工艺的选择对薄膜的性能具有重要的影响，根据磁控溅射技术原理，结合设备的实际应用，制定工艺流程如图 1
磁控溅射膜层的沉积是物理气相沉积。膜层厚度范围为 nm ～ μm 数量级，膜厚＜ 550nm ，对光有干涉作用，属于薄膜范畴，通常称薄膜技术。太阳能集热管内管外壁镀膜是采用属于物理气相沉积技术的磁控溅射镀获得太阳光谱选择吸收薄膜。
Ø 溅射速率高，沉积速率高
Ø 磁控溅射阴极源是一个较为理想的可控源，沉积的膜层厚度与溅射源的功率或放电电流有较好的线性相关性，所以有较好的可控性，能较好地实现批量生产产品的一致性和重复性。
Ø 溅射源采用靶材有广泛的选择性和组合性
Ø 溅射源可较理想地置于真空室内长时间稳定工作，获得纯正的膜层，确保膜层质量。
工业镀膜的目的是根据应用要求改变材料的性质，也就是通过镀膜提高基材的性能。随着原材料资源不断减少和价格的提高，在世界范围内对镀膜技术的需求越来越高。镀膜的质量取决于膜的纯度（真空度越高，膜的纯度越高），只有将镀膜腔内所有的气体全部抽除才能保证膜材不与环境物质发生反应。因此，工业镀膜对真空度的要求非常高。
在真空镀膜行业，一般不会对前级真空和抽气时间提出严格的要求，只要达到要求的真空度就可以工作。但生产产品的时间间隔却长短不一，有的只需5-10分钟，有的却需30分钟甚至1个小时。此时，若只考虑真空度而忽略抽气速率，就会加长生产成品时间，导致工时浪费，产量减少，综合成本增加。而使用真空性能优良的油品，不仅真空度高，而且到达真空快，抽气速率高。不仅节约了时间成本，也节约了生产成本，从而为企业提高经济效益。在真空镀膜行业中，滑阀泵、罗茨泵机组推荐使用一级品、优级品真空泵油。
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